磁控溅射/真空蒸发复合型镀膜设备应用于手机壳等塑料表面金属化,应用于不导电膜喝电磁屏蔽沉积。设备沉积速率快,镀层附着力好,镀层细腻致密,表面光洁度高,且均匀性一致性良好,该机实现镀膜工艺全自动化控制,装载量大,工作可靠,合格率高,生产成本低,绿色环保,主要适用于可镀制金属膜,合金膜,复合膜层,电脑壳,手机壳,电器等行业,不导电膜,电磁屏蔽膜等。
磁控/蒸发真空镀膜设备
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磁控/蒸发真空镀膜设备
详细信息 磁控溅射/真空蒸发复合型镀膜设备将溅射技术和真空蒸发技术结合,利用磁控溅射阴极辉光将靶材原子溅出并部分离化沉积在基材上成膜,同时又可利用在真空中以电阻加热将金属镀料溶融并让其汽化再沉积在基材成膜,增加了设备的用途和灵活性。
磁控溅射/真空蒸发复合型镀膜设备应用于手机壳等塑料表面金属化,应用于不导电膜喝电磁屏蔽沉积。设备沉积速率快,镀层附着力好,镀层细腻致密,表面光洁度高,且均匀性一致性良好,该机实现镀膜工艺全自动化控制,装载量大,工作可靠,合格率高,生产成本低,绿色环保,主要适用于可镀制金属膜,合金膜,复合膜层,电脑壳,手机壳,电器等行业,不导电膜,电磁屏蔽膜等。 |